需要进行硅的各向同性气相刻蚀实验，请问西安是否有高校、研究所或企业有这种设备？

本公司专注MEMS 工艺代工等微纳加工服务。提供 2-4-6 英寸 MEMS 晶圆加工工艺以及单步工艺加工服务，如光刻、热氧化、离子注入、RIE刻蚀（氧化硅/氮化硅/非晶硅）、PECVD、LPCVD（氧化硅/氮化硅）、磁控溅射、电子束蒸发、深硅刻蚀、退火、晶圆减薄和抛光、MOCVD 砷化镓、磷化铟外延生长、电镀、切割、键合、硅基氧化硅和氮化硅膜厚量测、电阻和方块电阻量测、SEM、XRD测试，同时按照客户要求，协助加工晶圆级样品等加工服务。联系18036066166（VX）

掩膜版是通过真空镀膜形成铬及铬的氧化物光遮蔽层，再通过激光或电子束光刻的方法在遮蔽层上形成所需的精密图案。应用范围广泛，主要在集成电路(IC)，IC封装，微机电（MEMS），功率器件与分立器件，平板显示行业（FPD），线路板行业，以及发光二极管(LED)和精细光学元器件等行业。苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体，欢迎您前来咨询：）

中心主营的业务有：各种半导体材料的三五族的光刻+刻蚀，并配有镀膜、表征、研磨抛光等业务，如有需要请联系，陈15122405217。

离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料表面，这个现象叫做溅射；而当离子束射到固体材料时，从固体材料表面弹了回来，或者穿出固体材料而去，这些现象叫做散射；另外有一种现象是，离子束射到固体材料以后，离子束与材料中的原子或分子将发生一系列物理的和化学的相互作用，入射离子逐渐损失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、结构和性能发生变化，这一现象就叫做离子注入。 离子注入可分为半导体离子注入（掺杂）

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