掩膜版是通过真空镀膜形成铬及铬的氧化物光遮蔽层，再通过激光或电子束光刻的方法在遮蔽层上形成所需的精密图案。应用范围广泛，主要在集成电路(IC)，IC封装，微机电（MEMS），功率器件与分立器件，平板显示行业（FPD），线路板行业，以及发光二极管(LED)和精细光学元器件等行业。苏州硅时代电子科技有限公司（Si-Era），集高精度掩模版的设计、研发、制作与服务为一体，欢迎您前来咨询：）