当然就要换道超车了,比如佳能,知道在EUV上是不可能打败ASML的,所以一直押注纳米压印光刻(NIL)技术。
所谓NIL技术,是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上,同时照射光线完成一次性转印,被称为是最有前景的光刻技术之一。
目前在NIL的专利上,佳能一支独秀,远超其它任何厂商,并且佳能的NIL光刻机不仅仅是停留在纸面上,而是已经有有生产出来了,在2021年就有了成品,并且被铠侠应用于NAND闪存的生产。
佳能近日表示,接下来会研发新一代的NIL光刻机,新一代的NIL光刻机,有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺。
值得大家注意的是,目前NIL技术,基本上都是日系厂商掌握,并不需要依赖美国、欧洲等的产业链,也就是说NIL光刻机,日本一旦生产出来,可以不听美国的,不受美国的长臂管辖,也意味着佳能一定生产出来,是可以卖给中国的。
所谓NIL技术,是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上,同时照射光线完成一次性转印,被称为是最有前景的光刻技术之一。
目前在NIL的专利上,佳能一支独秀,远超其它任何厂商,并且佳能的NIL光刻机不仅仅是停留在纸面上,而是已经有有生产出来了,在2021年就有了成品,并且被铠侠应用于NAND闪存的生产。
佳能近日表示,接下来会研发新一代的NIL光刻机,新一代的NIL光刻机,有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺。
值得大家注意的是,目前NIL技术,基本上都是日系厂商掌握,并不需要依赖美国、欧洲等的产业链,也就是说NIL光刻机,日本一旦生产出来,可以不听美国的,不受美国的长臂管辖,也意味着佳能一定生产出来,是可以卖给中国的。